6.1 版图设计入门 版图设计的定义 设计目的 Layout design:定义各工艺层图形的形状、尺寸以及不同工艺 层的相对位置。 设计内容 布局:安排各个晶体管、基本单元、复杂单元在芯片上的 位置 布线:设计走线,实现管间、门间、单元间的互连
一般来说,考试给出的版图都是nmos接vdd(高电平),pmos接vss或者gnd(低电平); 大部分情况,pmos在上,nmos在下,因为上面一般接高电平,下面接地或者低电平; 还有一些图会标出n阱或者p阱,由于cmos是互补的,因此n阱对应的区域是是pmos,p阱对应的是nmos区域。
通俗来讲,代工厂就是按照设计者提供的版图制造掩膜版,再通过掩膜版的形状结合工艺流程实现芯片制造。 上图展示的是CMOS工艺实现的 反相器截面图 ,图中n+和n+区域的分布决定着NMOS和PMOS的区域,版图设计就是确定这些区域如何分布,以及NMOS和PMOS之间的 ...
2024年12月11日 · 版图设计的定义与目的. 版图设计是将电路的逻辑设计转化为几何图形并提供物理信息的过程,其目的是使电路设计能够被集成电路制造厂生产。主要参数包括: 宽长比:用于定义mos管的尺寸。 电阻:根据放置厂提供的方块电阻值和长宽比例计算。
版图设计基础——认识版图 • 版图是电路图的反映,有两大组成部分 – 器件 • mos管 • 电阻 • 电容 • 电感 • 二极管 • 三极管 – 互连 • 金属(第一层金属,第二层金属……) • 通孔 • 版图,就是按照规则画好器件,合适地摆放好器 件,再用金属线 ...
2024年1月11日 · 这个文章里把这个原理讲的很清楚,我们照葫芦画瓢就能分析其他简单的版图。 输入在最下面,经过串联的四个NMOS输出,另一条是四个并联PMOS管,如下两图所示
版图由代表不同类型“层”的多边形组成。 在ic工艺中制作每一层时,都需要用掩模版来确定在 什么位置进行掺杂、腐蚀、氧化等。光刻是确定集成电 路加工区域的一种手段。 光刻的目的就是在二氧化硅或金属薄膜上面刻蚀出与
2024年12月21日 · 首先概述了cmos集成电路的工作原理和版图设计的基础理论,包括mos管的工作模式、cmos逻辑门的结构、版图设计的基本要求、设计规则、信号完整性和电源完整性
2020年12月23日 · CMOS技术是目前集成电路设计领域中的一项重要技术,它的全称是互补金属-氧化物-半导体技术(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)。 CMOS 工艺通过使用两种类型的MOS晶体管——P型MOS(PMOS)和N型MOS(NMOS)...
2024年10月29日 · 在当今高速发展的电子工程领域,cmos模拟集成电路版图设计无疑是核心技术之一。为了帮助广大电子工程、微电子专业的学生、集成电路设计的工程师以及对这一领域充满热情的技术爱好者,我们特别推出了“cmos模拟集成电路版图设计软件教程”。